製品情報
ガス精製装置

半導体の製造工程において、各種の材料ガス・キャリアガスが使用されます。良質な半導体を形成するために、御使用になるガスの種類に応じた、最適な精製装置をご提案します。

ゲッター式ガス精製装置　MODEL-UHG/URT

特長

  • 当社が開発した独自のゲッターによりガスの高純度精製が可能です。
  • 常温吸着式では除去困難な窒素（Ｎ2）の除去が可能です。
  • 反応筒（ゲッター）の積算精製ガス流量および積算精製時間を表示しますので反応筒の残有精製能力を確認できます。
  • ゲッターライフは長寿命です。
    （URT型：20,000hr　UHG型：9,000hr）
  • 週間運転機能を持ち、設定した時刻に反応筒のヒータのON/OFFが可能です。（URT型）

装置性能

形式 UHG URT
適用ガス H2 Ar,He,Xe,etc.
Inlet Outlet Inlet Outlet
最大圧力(MPa) 0.8 ⊿0.1以下 0.8 ⊿0.1以下
温度(℃) 5～35 5～35 5～35 5～35
  O2 5,000 ≦1ppb標準
※0.1は標準外		 100 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
CO 1,000 ≦1ppb標準
※0.1は標準外		 100 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
CO2 500 ≦1ppb標準
※0.1は標準外		 100 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
各不純物
(vol.ppb)		 H2 - - 100 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
CH4 100 ≦5ppb標準
※1ppbは標準外		 100 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
N2 5,000 ≦1ppb標準
※0.1は標準外		 5,000 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
H2O 10,000 ≦1ppb標準
※0.1は標準外		 2,500 ≦1ppb標準
※0.1は標準外
Particle   ≧0.1µm
≦1pcs/0.0283m3		   ≧0.1µm
≦1pcs/0.0283m3

※対応流量についてはご相談ください。
※URT、UHGの精製能力はゲッターの寿命を示し、原料ガスが上記条件の場合、最大流量下においてURTは20,000時間、UHGは9,000時間の使用が可能です。尚ゲッターの再生はできません。新規反応筒の交換が必要になります。水素除去筒は再生可能です。当社にて再生処理を行います。（海外については別途ご相談ください。）

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