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排ガス処理装置一覧

半導体製造に欠くことの出来ない排ガス処理技術分野での数多くの実績を有し、更に多様化するニーズに多彩な技術と最新鋭設備でお応えします。

吸着再生式排ガス処理装置 　MODEL-WGE

本装置は、エッチングプロセス用の湿式除害装置です。
Cl2、HBr、BCl3、HCl、HF、SiF4、etc対象ガスを、従来の湿式除害では出来なかったTLV値以下まで除去することが可能です。

特長

  • 吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。
  • 水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。
  • 水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。
  • 気液接触部での詰まりが少ない構造です。
  • 吸着筒の自動交互運転により連続除害が可能です。

装置仕様

分解筒型式 最大処理流量
[ℓ/min](nor)		 概算装置寸法
W×D×H(mm)
WGE-60 60 1,350×1,100×1,800
WGE-120 120 1,600×1,400×1,950
WGE-220 220 1,750×1,400×2,000

概略図

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本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。

カートリッジ式なので、能力を消耗した除害筒の交換が安全にできます。