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パイオファインカートリッジ(半導体用ガス精製器) MODEL-PF

パイオファインカートリッジ(半導体用ガス精製器)MODEL-PFの画像

特長

  1. 独自に開発した触媒の使用により、各種半導体用ガスの精製に優れた性能を発揮します。
  2. 精製筒、高性能フィルターおよびダイヤフラムバルブの一体構造によるコンパクト化を実現し、よりユースポイント近くでの精製が可能です。
  3. 高性能フィルターおよび出荷前のベーキング処理によりパーティクル/脱ガスについての万全の対策を施しています。
  4. 特別なユーティリティの必要はありません。(N型、B型は再生可能です。)

装置性能

型式 PF- H,A,N
適用ガス 下記適用ガスによる
Inlet Outlet
最大圧力(MPa) 0.5 ⊿0.1以下
温度(℃) 5〜35 5〜35
各不純物
(vol.ppb)
O2 500 ≦10
H2O※1 1,000 ≦13
型式 PF- B
適用ガス 下記適用ガスによる
Inlet Outlet
最大圧力(MPa) 0.5 ⊿0.1以下
温度(℃) 5〜35 5〜35
各不純物
(vol.ppb)
O2 500 ≦1
CO 500 ≦1
CO2 100 ≦1
H2 1,000 ≦1
H2O 1,000 ≦1

型式

型式 精製ガス量
(ℓ/min(nor))
精製能力(m3(nor))※2 重量
(kg)
H,N A B
PF-05-□※1 0.5 80 40 160 1.8
PF-2-□ 2.0 240 120 480 3.5
PF-10-□ 10.0 1,200 600 2,400 8.5

適用ガス

H型 AsH3, PH3, SiH4, Si2H6, H2S, H2Se, etc
A型 HCl, BF3, SiF4, SiH2Cl2, HBr, etc
N型 NH3, (CH3)2NH, etc
B型 N2, He, Ar, H2, etc

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ラインフィルター XLF-M 0.01μm対応小型テフロンメンブラン

特長

  1. 本フィルターは半導体用ガスフィルターとして、当社がクリーンガス供給システムに関する技術を基に開発した、高性能なインラインガスフィルターです。

XLF-M 0.01μm対応小型テフロンメンブラン

パイオファインカートリッジ(半導体用ガス精製器)MODEL-PFの画像

仕様

最高使用圧力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用差圧:
0.3MPa(3kgf/cm2)※
最大許容逆圧:
0.1MPa(1kgf/cm2)
最高使用温度:
130℃
有効濾過面積:
12cm2
Heリークレート:
1×10-9atm・cc/sec以下
均一粒子除去率:
0.01μm 99.999999%以上
0.05μm 99.999999%以上
0.10μm 99.999999%以上
材質:
ボディ:SUS316L
内面処理:特殊電解研磨仕上げ
エレメント:PTFEメンブラン
同上支持体:PFA

型式一覧

型式 接続継手 内面処理 L(mm)
XLF-M-V2P 1/4”VCRタイプ 特殊電解研磨 84
XLF-M-S2P 1/4”Swagelokタイプ 88※

流量特性

XLF-D 0.01μm対応中型テフロンメンブラン

XLF-D 0.01μm対応中型テフロンメンブランの画像

仕様

最高使用圧力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用差圧:
0.2MPa(2kgf/cm2)※
最大許容逆圧:
0.07MPa(0.7kgf/cm2)
最高使用温度:
120℃
有効濾過面積:
300cm2
Heリークレート:
1×10-9atm・cc/sec以下
均一粒子除去率:
0.01μm 99.999999%以上
0.05μm 99.999999%以上
0.10μm 99.999999%以上
材質:
ボディ:SUS316L
内面処理:特殊電解研磨仕上げ
エレメント:PTFEメンブラン
同上支持体:ECTFE
Oリング:PTFE

型式一覧

型式 接続継手 内面処理 L(mm)
XLF-D-V2P 1/4”VCRタイプ 特殊電解研磨 127
XLF-D-V3P 3/8”VCRタイプ
XLF-D-S2P 1/4”Swagelokタイプ 126※
XLF-D-S3P 3/8”Swagelokタイプ 132※

流量特性

XLF-E 0.01μm対応中型テフロンメンブラン

XLF-E 0.01μm対応中型テフロンメンブランの画像

仕様

最高使用圧力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用差圧:
0.3MPa(3kgf/cm2)※
最大許容逆圧:
0.07MPa(0.7kgf/cm2)
最高使用温度:
120℃
有効濾過面積:
34cm2
Heリークレート:
1×10-9atm・cc/sec以下
均一粒子除去率:
0.01μm 99.999999%以上
0.05μm 99.999999%以上
0.10μm 99.999999%以上
材質:
ボディ:SUS316L
内面処理:特殊電解研磨仕上げ
エレメント:PTFEメンブラン
同上支持体:PFA
Oリング:PTFE

型式一覧

型式 接続継手 L(mm)
XLF-E-V2P 1/4”VCRタイプ 127
XLF-E-V3P 3/8”VCRタイプ 133
XLF-E-S2P 1/4”Swagelokタイプ 130※
XLF-E-S3P 3/8”Swagelokタイプ 134※

流量特性

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XLF-L 0.01μm対応大型テフロンメンブラン

XLF-L 0.01μm対応大型テフロンメンブランの画像

仕様

最高使用圧力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用差圧:
0.3MPa(3kgf/cm2)※
最大許容逆圧:
0.1MPa(1kgf/cm2)
最高使用温度:
100℃
有効濾過面積:
1×10-9atm・cc/sec以下
均一粒子除去率:
0.01μm 99.999999%以上
0.05μm 99.999999%以上
0.10μm 99.999999%以上
材質:
ボディ:SUS316L
内面処理:特殊電解研磨仕上げ
エレメント:PTFEメンブラン
同上支持体:PP
Oリング:バイトン(テフロン被覆)

型式一覧

型式 接続継手 L1(mm) L2(mm) øD(mm)
XLF-L-0504-P 1/2” 255 155 76.3
XLF-L-0515-P 15Asch5s
XLF-L-1015-P 392 275 101.6
XLF-L-1020-P 20Asch5s
XLF-L-1025-P 25Asch5s
XLF-L-2040-P 40Asch5s 652 535
XLF-L-3050-P 50Asch5s 912 795

流量特性

ULF-B06 0.09μm対応汎用小型テフロンメンブラン

ULF-B06 0.09μm対応汎用小型テフロンメンブランの画像

仕様

最高使用圧力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用差圧:
0.01MPa(0.1kgf/cm2)※1
最大許容逆圧:
0.1MPa(1kgf/cm2)
最高使用温度:
100℃
有効濾過面積:
10cm2
均一粒子除去率:
0.09μm 99.999999%以上
材質:
ボディ:SUS316
エレメント:PTFEメンブラン
同上支持体:ETFE
Oリング:バイトン(標準)※2

型式一覧

型式 接続継手 L(mm)
ULF-B06-W2-V 1/4”Swagelokタイプ 145※
ULF-B06-W3-V 3/8”Swagelokタイプ 150※

流量特性

SLF Series 450℃ベーキングが可能なステンレスフィルター

特長

  1. SUS316Lステンレスエレメントの採用で、きわめて脱ガスが少なく、かつ、450℃のベーキングが可能な高性能なインラインガスフィルターです。

形式

材質:
ボディ及びエレメント:SUS316L

型式一覧

型式 接続継手 内面処理 L(mm)
SLF-M-V2P 1/4”VCRタイプ 特殊電解研磨 84
SLF-E-V2P 127
型式 接続継手※1 L1(mm) L2(mm) ∅D(mm)
SLF-L-0204-P 1/2” 210 143 12
SLF-L-0604-P 300 233 35
SLF-L-0615-P 15Asch5s 315
SLF-L-1515-P 565 483 90
SLF-L-1525-P 25Asch5s
SLF-L-3025-P 985 903 180
SLF-L-3040-P 40Asch5s 1,005
SLF-L-5040-P 1,425 1,323 260

流量特性

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