产品信息
气体纯化装置

半导体的制造工序中会用到各种原料气体和载气。为了形成优质的半导体，我们将根据客户所使用的气体类型，推荐出最佳的纯化装置。

钯膜金膜透过式氢气纯化装置　MODEL-VP-DH

特点

  • 氢气以外的物質完全透过不了，以钯合金渗透膜透过的方式来进行纯化、可做到不含粒子(PARTICLE)、并可获得超高純度氢气。
  • 本公司的钯膜管寿命长※1。采用独家开发的钯合金细管，具有高强度、高耐久性和大的透氢能力。
  • 不需要再生操作，始终可获得稳定的高纯度氢气。
  • 装置为自動运转方式。

内部图

装置性能

型式 VP-DH
适用气体 H2
Inlet Outlet
最大压力(MPa) 0.98 0.003
温度(℃) 5～35 5～35
气体纯度 ≧99.5% ≧99.999999%
各种杂质
(vol.ppb)		 O2 - ≦0.1
CO - ≦0.1
CO2 - ≦0.1
H2 - -
CH4 - ≦0.1
N2 - ≦0.1
H2O - ≦1
Particle   ≧0.1µm
≦1pcs/
0.0283m3

※关于可对应流量，请咨询我公司。

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